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搜尋「薄膜」,共 1497 筆

隨著高階電子產品朝高密度封裝與高速訊號傳輸發展,顯示面板產業累積的玻璃加工、薄膜沉積及精密圖案化技術,正逐步延伸至半導體先進封裝與光通訊領域。友達光電近日揭露Micro LED光通訊及玻璃核心基板技術布局,積極探索顯示製程跨足高階電子零組件…

先進半導體微影持續微縮,奈米結構能否在檢測過程中維持完整,成為材料開發與製程驗證的重要關卡。國研院國儀中心攜手汎銓科技,開發低於100℃的原子層沉積(ALD)鍍膜技術,在高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影使用的金屬氧化物光阻(…

隨著AI資料中心、高功率伺服器及能源轉換系統對電力效率要求持續提高,寬能隙半導體為功率元件技術升級的重要方向。由台灣創業者周大順在德國柏林創辦的NextGO Epi,聚焦氧化鎵(Ga?O?)磊晶材料開發,並且以4吋晶圓製造技術切入新一代功率…

隨著AI加速器、高效能運算與新一代行動晶片持續提高效能及能源效率要求,半導體先進製程正加速邁向2奈米世代。台積電10月15日公布最新製程進展,2奈米技術已進入量產爬坡階段,第三季占晶圓營收比重達8%,高於第二季的3%,並預期2027年2奈米…

AI伺服器競爭正在從GPU、HBM與高速網路向更上游材料及製程設備延伸。隨著高速訊號、功耗與PCB層數增加,Low-Dk玻纖布、低粗糙度銅箔與高階CCL成為AI硬體升級的重要基礎;另一方面,材料結構愈複雜,也同步拉高X-射線(X-ray)等…

AI晶片需求持續推升晶圓廠投資,然而半導體擴產的新瓶頸正由曝光機、先進封裝進一步延伸到電力基礎設施。韓國電力公司(KEPCO)日前要求三星電子與SK hynix預付未來五年合計25兆韓元電費,希望用於加速輸電線路及變電站建設,其中三星約20…

AI算力競賽不只是讓資料中心搶電,連先進晶圓廠也開始面臨相同的瓶頸。韓國電力公社(KEPCO)原希望三星電子與SK海力士預付未來五年、合計約25兆韓元電費,用於提前建設半導體聚落所需輸電與變電設施,但兩家公司考量後續設備投資及財務負擔,決定…

富士通(Fujitsu)成功開發出全球首款結合錫-空位(SnV)中心與光學積體電路的鑽石自旋量子電腦原型機。此項技術突破不僅運作溫度高於傳統超導量子電腦,更透過高保真度與光學互連特性,為量子電腦邁向「模組化大規模擴展」奠定關鍵里程碑。 該成…

半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM…

適逢集團創立 150 週年,全球接著劑與材料大廠漢高(Henkel)於 SEMICON Taiwan 2026 期間宣布強化先進封裝材料平台布局,並正式啟動在台研發量能翻倍擴建,新實驗室預計於 2027 年 1 月正式啟用。 漢高電子事業部…

AI算力需求快速膨脹,半導體產能瓶頸已從GPU與CoWoS,進一步擴散至晶圓廠、設備、材料、廠務甚至建廠人力。台積電副共同營運長侯永清在SEMICON Taiwan 2026指出,AI需求增速是過去30年未見,若以去年底設備需求預估為基準,…

台達(2)日宣布參與2026年國際半導體展(SEMICON 2026),因應AI 帶動製造升級、能源需求,台達以「AI 建構智造韌性未來」為主題,展示包含「半導體前後段製程應用」、「智能製造與資安方案」,以及「廠務及基礎設施」,呈現軟硬體整…

德國薩克森邦首府德勒斯登是歐洲重要的半導體產業重鎮,近年持續吸引大型投資並擴充先進製造能量。由台積電、博世(Bosch)、英飛凌(Infineon)與恩智浦(NXP)共同投資的歐洲半導體製造公司(ESMC)德勒斯登晶圓廠持續推進建設,預計於…

AI、高效能運算(HPC)與先進製程持續推升電子級化學品需求,台塑進一步將石化原料優勢延伸至半導體關鍵材料。台塑宣布與日本大賽璐(Daicel Corporation)合資成立「台塑大賽璐精密化學」,鎖定半導體製程使用的電子級光阻稀釋劑,預…

SILITH與聯華電子今(14)日共同宣布,聯電新加坡晶圓廠完成首批量產矽光子晶圓交付。象徵雙方合作邁入量產新里程碑,並進一步推動下世代矽光子的大規模製造。本次合作結合 SILITH 的矽光子設計專業與聯電的12 吋晶圓製造與製程能力,以支…

Micro LED持續緩步前進,在智慧錶、透明顯示和車用顯示領域漸漸打開市場。而在AI當道的世界,Micro LED似乎又找到了另一個可以大顯身手的地方,也就是AI高速傳輸的領域,有機會進入矽光子光傳的供應鏈,成為在CPO架構中的一員,取代…

當全球半導體競逐邁入原子級尺度之際,二維材料被視為延續摩爾定律的關鍵解方。國研院國儀中心今(7)日也宣佈掌握「大面積二維材料製程設備與檢測技術」,並攜手陽明交通大學、日本東京大學及國研院半導體中心,共同突破傳統二維半導體製程的限制,建立晶圓…

為滿足DRAM與先進封裝技術創新需求,應用材料公司近期推出一系列晶片製造新系統,以支援製造新一代AI晶片所需的3D架構。包含專為DRAM晶圓廠打造的磊晶(Epitaxy)系統、化學機械平坦化(CMP)與沉積系統、電子束系統(eBeam),挑…

受惠於生成式AI帶動伺服器升級,已使相關半導體需求從單一運算晶片,擴展為涵蓋GPU、AI ASIC、HBM等不同元件的完整系統,以及對於半導體先進封測製程的產能,進一步加速前後段半導體設備為此升級轉型。 從前段製程的微影、蝕刻、薄膜沉積、離…