由於7奈米及更先進製程愈趨複雜昂貴，正採用不同方法來提高效能，亦即降低工作電壓並使用新IP區塊來強化12奈米節點，而這些改變對於AI加速器特別有效。格羅方德的客戶已在AI加速技術上取得成功，這也為新一代12LP+技術奠定基礎。

摩爾定律可能不會消失，但它正在迅速走向盡頭。經過50年的持續不斷進步，實現下一個節點變得越來越艱難。在過去十年中，微影（lithography）技術的成本不斷上漲，特別是近來導入極紫外光（EUV）後。從16奈米節點開始，轉進到3D電晶體（FinFET），也使得成本進一步提高。結果，如圖一所示，電晶體成本過往驟降的幅度已趨緩，在之前幾個節點中只有緩慢進展。新款晶片設計的初始下線（Tape-Out）成本也從28奈米的100萬美元，飆升至7奈米的1,000萬美元左右。
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