账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
联电获MoSys授权1T-SRAM技术
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2002年11月20日 星期三

浏览人次:【3175】

联电与MoSys近日宣布,联电取得MoSys之1T-SRAM技术的授权,以加强联电现有的IP服务,提供更适合联电制程的记忆体给SoC设计工程师使用。联电并将此高密度(ultra-high density)1T-SRAM记忆体技术客制化,进而提供更多重的选择。

联电市场开发部的副总经理李俊德表示,记忆体在晶片设计成功与否中扮演着重要角色,因为依照记忆体发展,未来将占SoC晶片面积的50%以上,因此联电提供更适于联电制程的记忆体巨集,除了联电目前提供的6T及trench(沟道)记忆体,1T-SRAM将是另一种不同的选择。

SoC嵌入式记忆体供应商MoSys副总经理兼IP部门总经理Mark-Eric Jones先生表示,MoSys很高兴联电采用MoSys技术,且此协议将持续以往双方的合作关系,使联电能直接提供设计支援及服务给客户。 MoSys 提供适合联电0.15微米及0.18微米标准逻辑制程的1T-SRAM记忆体巨集,客户可经由联电的Gold IP program找到合适之技术。

關鍵字: IP  SRAM  0.15微米  0.18微米  联电  MoSys  Mark-Eric Jones  李俊德 
相关新闻
联电2024年第一季晶圆出货量成长率4.5%
联电和英特尔宣布合作开发12奈米制程平台
联电获台湾智慧财产管理制度AAA最高等级认证
联电深耕ESG 永续经营实力获国际肯定
联华电子四度获颁国家永续发展奖
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 延续后段制程微缩 先进导线采用石墨烯与金属的异质结构
» 提升供应链弹性管理 应对突发事件的挑战和冲击
» 专利辩论
» 碳化矽基板及磊晶成长领域 环球晶布局掌握关键技术


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK84TA2ZYPOSTACUKO
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw