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ENTEGRIS扩建台湾技术研发中心 厚植微污染物分析能力
 

Rapport \u3011    2017年09月18日 星期一

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特用材料供应商Entegris将扩建其在台湾新竹的台湾技术研发中心 (TTC)。扩建计画包含专门开发过滤媒介的微污染控制实验室 (MCL),这同时也是亚洲应用开发实验室 (AADL) 迁移後的新址,该实验室主要从事微量金属、有机污染物和奈米微粒的分析。此扩建计画将扩大中心现有的研发、工业化生产和试产能力,同时建立单一的厂外合作据点,来满足客户夥伴对特用化学品、CMP 和液体过滤上的需求。

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Entegris 营运长 Todd Edlund 表示,随着元件微缩持续是当今装置高效构建的主要驱动力,制程材料与设备间的互动及相依性正位居关键的演化点上。将业界内最专业的人才齐聚在这座最先进的研发中心内,Entegris 将更有能力来满足这些需求。扩建 MCL 设施後,将我们在液体过滤、特用化学品和 CMP 领域的核心专才整合,提供更完整的分析服务与技术开发解决方案,协助客户夥伴在逻辑、DRAM 和 3D NAND 装置制造上的挑战。

在此同时,Entegris也发表了多项产品,包括 Oktolex 薄膜技术,这项技术可应用在先进的使用点光微影技术上。Oktolex 的薄膜可针对各种化学品的需求,强化各种薄膜原本的拦截机制,过滤重要的光化学污染物。Oktolex 薄膜将薄膜特性与特定污染物的吸收机制作匹配,进而可将薄膜的过滤效能最隹化,且不会与化学品的组成产生不良反应。

此外,还有可提升工厂效率的全新 GateKeeper GPU(气体纯化装置)腐蚀性气体纯化器。这款新的 GPU 腐蚀性气体纯化器采用 Entegris 的高阶媒介,其特殊设计可同时去除 18 种不同气体内的湿气并捕捉挥发性金属微粒,气体包括有 Cl2、HBr、HCl、CF4、BCl3、SO2 和 SF6 等,有助於提升晶圆产能。

Entegris同时也推出了 Integra Plus WS(堰式阀)高流量流体管理阀的效能资料。这些阀是今年七月推出,系针对半导体制程应用中的腐蚀性化学品所设计。Entegris 在 2017 年 6 月经过大量测试後收集到这些资料,资料显示其流体效能比竞争对手适用於超纯度大量化学品和 CMP 研磨液应用的阀高出 70%。

關鍵字: MLC  AADL  Entegris 
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