账号:
密码:
最新动态
 
产业快讯
 
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
德州仪器扩大氮化??半导体内部制造作业 将自有产能提升至四倍
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2024年10月25日 星期五

浏览人次:【3851】

德州仪器 (TI) 已开始在日本会津的工厂生产氮化?? (GaN) 功率半导体。随着会津厂进入生产,加上位於德州达拉斯的现有GaN制造作业,TI 现针对GaN功率半导体的自有产能可增加至四倍之多。GaN做为矽的替代方案,这款半导体材料可在许多领域中提供优势,包括节能、开关速度、电源解决方案尺寸与重量、整体系统成本,以及在高温与高压条件下的性能等。

德州仪器於自有的第二家工厂生产GaN功率半导体
德州仪器於自有的第二家工厂生产GaN功率半导体

GaN晶片可提供更高的功率密度,也就是在更小的空间提供更多功率,使其能应用於笔记型电脑或行动电话的电源转接器,或是更小、更节能的加热与空调系统和家用电器马达。现在,TI提供广泛的整合式GaN功率半导体产品组合,从低电压到高电压都包含在内,藉此实现最为节能、可靠且具高功率密度的电子产品。

關鍵字: SiC  GaN  宽能隙半导体  化合物半导体  TI  TI 
相关新闻
英飞凌:氮化??将重塑电力电子 2030年市场上看30亿美元
工研院组队亮相NEPCON JAPAN 展现研制AI、车用半导体实力
GE Aerospace第四代SiC MOSFET瞄准AI资料中心与高功率工业应用
格棋:以碳化矽为核心 打造台湾第三类半导体新战略地位
Nexperia新款1200 V SiC 萧特基二极体适用於高功率密集基础设施
相关讨论
  相关文章
» 挥手即控制!新唐科技推出 NuMaker-GestureAI-M55M1 赋予终端设备智慧手势控制能力
» 恩智浦Omlox Starter Kit方案 推动工业实时定位技术发展
» AI算力需求作後盾 2025年前十大IC设计厂营收年增44%
» 恩智浦与NVIDIA携手合作 共同推动先进实体AI创新发展
» 恩智浦新推出UCODE X 拓展RAIN RFID应用新品类别


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2026 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HKA699XRV5KSTACUKN
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw