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NEC研發成功0.095微米半導體製造技術
 

【CTIMES/SmartAuto 馬耀祖 報導】   2001年06月23日 星期六

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日本NEC日前宣佈,該公司已在0.1微米的半導體製程技術獲得重大突破,NEC在全球率先研發成功的0.095微米的半導體技術,將運用於製造大型IC,並將在上半年推出市場。與以往採用0.13微米技術的產品比較,採用0.095微米技術製造的新產品容積量增加了19倍之多,可以節省30%的電能,且能夠有高達1GHz的運行速度,這對高速大容量通信系統和省電要求很高的設備來說,具有很高的應用價值。因此,專家們認為半導體技術0.1微米的突破,將為網路發展帶來重大的助力。

專家們曾經預測,到2003年,全球半導體業界將超越0.25、0.18及0.15微米製程技術,進入0.13微米製程的新領域,而現在由於日本NEC公司提前突破了0.1微米製程技術,因此專家們認為全球半導體技術的發展將會加速,半導體製造廠商將會以更先進的技術加快升級,以適應新的市場需求。

關鍵字: 半導體製程  NEC 
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