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前進22奈米 諾發、IBM、CNSE成立策略合作聯盟
 

【CTIMES/SmartAuto 劉筱萍 報導】   2010年03月12日 星期五

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諾發系統近日宣佈,該公司與東菲什克爾的IBM、紐約奧爾巴尼的紐約大學奈米科學與工程學院(CNSE),日前於CNSE的Albany奈米科技中心共同成立策略合作聯盟 ,將致力於發展22奈米以及更小世代的半導體製程技術的解決方案。

先進的45奈米和32奈米的半導體電路已進入量產,28奈米及更小世代的產品則正在進行開發。每進入一個更小的世代,就能促成體積更小、速度更快,並兼具更高效能的晶片,同時,也直接提高了產品的性能。受惠的對象則涵括伺服器至智慧型手機。

這個技術聯盟成立後的第一個專案,將發展使用於28奈米和22奈米製程的無殘留物先進光阻剝除技術。光阻剝除是半導體晶片佈線的關鍵技術,此次合作的範圍將包含一系列光阻剝除製程,包括高劑量植入光阻剝除製程相容於高介電金屬閘極的技術,以及對極低介電係數材料無損傷的化學蝕刻技術之發展。

諾發系統表示,IBM在半導體技術發展與製造的經驗和成就,可以幫助這個團隊加速在28奈米以及更小世代製程的開發。IBM位於East Fishkill的半導體工廠和CNSE學院的Albany奈米科技中心,將使用諾發系統的GxT先進光阻去除平台研發新的精密光阻剝除去應用。諾發系統在GxT平台上可表現出卓越的清洗效果,藉由導入特有的無氧化化學去除技術,成功實現了矽和氧化物損失小於0.1奈米的成果。CNSE學院則可在Albany奈米科技中心,提供第一流水準的技術人才與科技設施。

關鍵字: 22奈米  半導體製程 
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