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Aprio宣布加入ARM Connected Community
 

【CTIMES/SmartAuto 林彥慧 報導】   2006年05月02日 星期二

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Aprio於5月1號宣佈參加ARM Connected Community,該公司總裁兼執行長Mike Gianfagna表示:「加入ARM Connected Community可以幫助DFM〈可製造性導向設計〉發展,而且也能為ARM注入IP驗證的製造資訊。」

ARM Connected Community已經有超過300家半導體設計產業鏈上的成員,包括有軟體供應商、工具開發商、設計工具和服務供應商、作業系統供應商、培訓和支援供應商,以及半導體和系統生產商,涵蓋了所有的市場應用。而社團的宗旨在於形成會員公司之間的網絡,提供以ARM核心為基礎的各種解決方案及產品的宣傳機會。Aprio將在以ARM Connected社團會員身份活動期間,提供最好的DFM技術,並參加ARM的各種相關展會及會議。

總部位於美國加州的Aprio成立於2003年,去年初針對DFM技術推出首款Halo系列產品後,過去一年來已陸續發表包括Halo-Fix和Halo-iOPC軟體,也已與NEC和KLA-Tencor等設備業者形成策略夥伴關係,DFM已成為EDA產業中一個非常熱門的議題。

現在興建一座65nm晶圓廠的成本會超過30億美元,然而卻遭遇到良率不佳、投資報酬率(ROI)低於預期的困境。這其中的原因為IC設計人員不瞭解製造過程的條件,同樣地,製造工程師也不知道他們生產的晶片具備怎樣的功能。因此,近來DFM技術的崛起,就是希望能夠打破製造與設計之間的隔閡。至今,新崛起的DFM公司就有超過二十家之多,可見其所受重視的程度。

Mike Gianfagna指出,設計與製造之間的隔閡原因在於兩方面都使用不相容的設計方法與資料模式,因此非常難以溝通。Aprio推出的Halo系列產品,就是試圖以新的概念來解決設計與製造間的溝通問題。Halo是業界首款能夠重新使用OPC(光學近似校正)結果的軟體,它是以漸進(incremental)、層級(hierarchical)式的做法處理光罩資料,同時,設計人員能夠透過其DFM View功能,檢視設計出來的電路在矽晶圓上的實際幾何圖形。因此,設計人員必須瞭解微影變異性對電路設計的影響,製造工程師也必須了解其所製作的幾何圖形所代表的設計涵義。總結來說,惟有透過真正結合設計與製程資料,才能真正達到DFM的效益。

關鍵字: DFM  EDA  Aprio  ARM Connected Community  Mike Gianfagna  EDA 
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