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NI將半導體測試系統的PXI SMU通道密度提升6倍
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2018年02月06日 星期二

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國家儀器(NI)發表PXIe-4163高密度電源量測單元(SMU),其DC通道密度為上一代NI PXI SMU的6倍,適合用來測試RF、MEMS與混合訊號,以及其他類比半導體元件。

NI全球銷售與行銷執行副總EricStarkloff表示:「5G、物聯網與自動化汽車等高顛覆性技術的出現,迫使半導體產業必須持續推動技術發展,並採用更具效率的方式來進行半導體測試。半導體測試在NI的策略佈局中佔有重要地位;正因如此,我們正積極擴充旗下軟體平台與PXI的功能,並促成最新款PXI SMU的問世;PXI SMU可協助晶片製造廠解決眼前的重大挑戰。」

許多晶片製造廠均已迅速採用半導體測試系統(STS),以達到提高產量、提升成本效益與縮減生產線規模等目的。新款PXIe-4163 SMU可進一步發揮上述功效。PXIe-4163 SMU具備更高的DC通道密度,能在多站點應用上實現更高等級的平行機制,同時透過可立即用於生產的規格,達到實驗室等級的量測品質。工程師可結合運用上述優勢,將相同的儀控設備運用在檢驗實驗室與生產線上,如此即可減少與量測相關的種種難題,並縮短上市時間。

STS於2014年首度發表,為半導體生產測試提供了截然不同的方式。STS是以NI PXI平台為基礎所建置而成,可協助工程師建置更具智慧效能的測試系統。這款PXI平台涵蓋1GHz頻寬的向量訊號收發器、fA系列SMU、領先業界的商用現貨測試管理軟體TestStand,以及超過600款PXI產品(從DC到mmWave皆包含在內)。

關鍵字: SMU  NI 
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