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Mentor的Tanner類比/混合訊號工具完成台積電類比IC特殊製程認證
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2019年10月14日 星期一

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Mentor, a Siemens Business宣佈,該公司的Tanner類比/混合訊號(AMS)設計工具 ─ Tanner S-Edit原理圖擷取工具和Tanner L-Edit佈局編輯器 ─ 已通過TSMC的互通性PDK(iPDK)認證,可適用於台積電為大量類比IC設計提供的各種特殊製程技術。

Mentor的Tanner AMS設計工具經過最佳化,可創建自訂的類比或「Analog on Top」的混合訊號晶片(IC),適用於22奈米或以上製程。許多領先的IC供應商都採用Mentor的Tanner工具為包括汽車、穿戴裝置和工業物聯網(IoT)等廣泛市場設計高度複雜的混合訊號(AMS)元件。

「全球許多成長最快的市場越來越需要專用的混合訊號AMS晶片,以用來無縫連接類比和數位世界。Mentor的Tanner工具經過專門設計, 以滿足IC設計人員日益成長的需求,並為需要高度創新的混合訊號AMS IC提供一個理想的設計平台」 Mentor晶片設計系統總經理Greg Lebsack表示。「Tanner AMS工具現已通過台積電支援類比IC設計的特殊製程認證,這對我們的客戶來說是個大好消息,因為它可以加速上市時程並把風險降至最低。Mentor的Tanner AMS解決方案和台積電的類比IC特殊製程是協助我們共同客戶致勝市場的絕佳組合。」

台積電的特殊製程技術iPDK可協助晶片製造商滿足領先AMS IC設計的特定要求。Mentor AMS工具現已通過台積電的多項iPDK認證,包括22奈米超低功耗、28奈米高效能運算、40奈米混合訊號技術,以及適用於現今最先進類比IC的其他特殊製程技術。

台積電設計建構行銷處資深處長Suk Lee表示:「我們與Mentor的持續合作,可確保我們的共同客戶能獲得所需的EDA解決方案和服務,以支援他們在特殊節點上成功完成晶片設計和製造。這項共同努力把台積電的特殊製程技術與Mentor的先進設計工具結合在一起,使我們的客戶能在汽車、智慧穿戴裝置和工業物聯網等廣泛市場中實現創新成功。」

關鍵字: mentor  台積電(TSMC
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