QMEMS打造高性能Photo AT元件
作者\林志遠
在石英晶體應用的市場上,為了達到小型化、高精確度、高可靠性等進階的特性需求,傳統的機械加工製程已面臨技術瓶頸,需要導入新一代的製程技術。採用半導體光微影製程(Photolithography process)的QMEMS技術,正是滿足這些需求的解決方案。