在全球半导体竞争日益激烈的局势下，欧盟正式启动 NanoIC 晶片试产线（NanoIC pilot line），意图强化本土先进半导体研发与制造能力，并缩小与亚洲、美国先进晶片制造的技术差距。该设施於比利时鲁汶（Leuven）的 imec 研究中心揭幕，是《欧洲晶片法案》（European Chips Act）下迄今规模最大的试产线计画之一。

NanoIC 试产线所在地imec 鲁汶研究中心

NanoIC 试产线总投资规模约 25 亿欧元（约合新台币 880 亿元以上），其中约 7 亿欧元由欧盟直接投资，另有相同金额由成员国及地区政府支援，其馀资金则来自包括 荷兰设备大厂 ASML 在内的产业合作夥伴。

该试产线为欧洲首个部署最先进极紫外光刻（EUV）技术 的研发设施，可用於设计与测试亚 2 奈米（<2nm）级先进制程的晶片。这项布局象徵欧洲从实验室研究向工业级晶片制造跨步，为未来先进 SoC（系统单晶片）开发奠定基础。

NanoIC 的主要目标是加速下一代半导体技术的开发与市场导入，这些技术对於 AI、自驾车、自动化医疗设备、未来 6G 通讯等产业都非常关键。Facade 为欧盟希??在这些关键技术领域拥有主导权的核心平台之一。

这个试产线采 开放模式 运作，不仅提供大型企业使用，也开放给中小型企业、初创团队与学术机构，可利用接近工业量产的设施进行 晶片设计、工具测试及工艺开发。专家认为，这样的「从实验室到量产前的桥接阶段」是提升技术成熟度、降低进入门槛、并吸引人才的重要关键。

imec 的执行长於启动典礼表示，NanoIC 的成立不仅提升欧洲在全球半导体供应链中的地位，也有助於建立一个具备长期竞争力的研发与生产生态系统。随着更多设备陆续整合进试产线，未来将进一步支持更高制程节点与创新技术的研发。