在全球半導體競爭日益激烈的局勢下，歐盟正式啟動 NanoIC 晶片試產線（NanoIC pilot line），意圖強化本土先進半導體研發與製造能力，並縮小與亞洲、美國先進晶片製造的技術差距。該設施於比利時魯汶（Leuven）的 imec 研究中心揭幕，是《歐洲晶片法案》（European Chips Act）下迄今規模最大的試產線計畫之一。

NanoIC 試產線所在地imec 魯汶研究中心

NanoIC 試產線總投資規模約 25 億歐元（約合新台幣 880 億元以上），其中約 7 億歐元由歐盟直接投資，另有相同金額由成員國及地區政府支援，其餘資金則來自包括 荷蘭設備大廠 ASML 在內的產業合作夥伴。

該試產線為歐洲首個部署最先進極紫外光刻（EUV）技術 的研發設施，可用於設計與測試亞 2 奈米（<2nm）級先進製程的晶片。這項佈局象徵歐洲從實驗室研究向工業級晶片製造跨步，為未來先進 SoC（系統單晶片）開發奠定基礎。

NanoIC 的主要目標是加速下一代半導體技術的開發與市場導入，這些技術對於 AI、自駕車、自動化醫療設備、未來 6G 通訊等產業都非常關鍵。Facade 為歐盟希望在這些關鍵技術領域擁有主導權的核心平台之一。

這個試產線採 開放模式 運作，不僅提供大型企業使用，也開放給中小型企業、初創團隊與學術機構，可利用接近工業量產的設施進行 晶片設計、工具測試及工藝開發。專家認為，這樣的「從實驗室到量產前的橋接階段」是提升技術成熟度、降低進入門檻、並吸引人才的重要關鍵。

imec 的執行長於啟動典禮表示，NanoIC 的成立不僅提升歐洲在全球半導體供應鏈中的地位，也有助於建立一個具備長期競爭力的研發與生產生態系統。隨著更多設備陸續整合進試產線，未來將進一步支持更高製程節點與創新技術的研發。