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讨论新闻主题﹕EV Group步进重复奈米压印微影系统突破生产微缩化

新闻 提要
相较于昔日步进重复奈米压印微影（NIL）的进一步开发与生产微缩化的需求，常被受限于较大面积上精准母模的可用性。晶圆接合暨微影技术设备商EV Group（EVG）推出次世代步进重复NIL系统EVG770 NT。 EVG770 NT可以为扩增实境（AR）波导管、晶圆级光学技术（WLO）及先进实验室晶片元件量产使用的大面积母模加工，促成复杂的微型与奈米图案结构的精准复制来进行大面积母模加工。 借助EVG在NIL与步进重复母模累积数十年的经验，EVG770 NT的设计旨在成为一套让效能、生产力与制程控制性极大化的完全生产导向系统，并提供先进的叠层精准度与解析度，尺寸最高可以放大至300mm晶圆及第二代面板尺寸

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