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CTIMES / Semicon China
科技
典故		 电子工业改革与创新者 - IEEE

IEEE的创立，是在于主导电子学的地位、促进电子学的创新，与提供会员实质上的协助。
SEMICON Chin展先进制程解方 资腾PVA刷轮有效提升良率 (2026.03.24)
迎接埃米时代对晶圆洁净与先进制程稳定性的高度要求，资腾科技在今年3月25~27日举行的SEMICON China展示各项先进制程解决方案。其中CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械研磨）超洁净空气PVA刷轮，强调可有效降低微粒与制程残留，缩短预清洁时间，并减少晶圆空片用量，全面强化先进制程与封装良率
SEMICON Chin展先进制程解方 资腾PVA刷轮有效提升良率 (2026.03.24)
迎接埃米时代对晶圆洁净与先进制程稳定性的高度要求，资腾科技在今年3月25~27日举行的SEMICON China展示各项先进制程解决方案。其中CMP（Chemical Mechanical Polishing，化学机械研磨）超洁净空气PVA刷轮，强调可有效降低微粒与制程残留，缩短预清洁时间，并减少晶圆空片用量，全面强化先进制程与封装良率

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