达梭系统展示PLM2.0新世代的V6平台

全球3D与产品生命周期管理(PLM)解决方案厂商达梭系统(Dassault Syst??es)，於年度「ENOVIA－新世代PLM协同作业」研讨会中展示PLM2.0新世代的V6平台。现场聚集了一百五十多位横跨多项产业先进共襄盛举，其中包括工业设备、半导体及高科技等产业。

图一 : 达梭系统举办「ENOVIA－新世代PLM协同作业」研讨会（来源：厂商）

达梭系统ENOVIA亚洲??总裁暨总经理Andy Kalambi於会中介绍达梭系统的V6策略如何体现PLM2.0。PLM2.0主要建立一个线上的3D环境，以支援创新产品。创作者、协同研发者以及消费者，皆可透过此全新概念交流构想并建立智慧财产，缩短产品上市时间。达梭系统全球半导体产业策略解决方案总监Rick Stanton以「PLM 2.0：V6-新世代的PLM协同合作」以及「高科技及半导体公司的获利创新」为题，分享达梭如何协助客户提升生产效益。

达梭系统ENOVIA亚洲??总裁暨总经理Andy Kalambi指出：「大中华区经济快速成长，跻身为世界重要的制造中心，代表长期成功与创新的巨大商机。新推出的V6平台及PLM 2.0的概念，可促进全球性、多功能的协同合作，有助於撷取组织的集体智慧，提供所需的工具及业务流程，以推动创新，提升投资报酬率。」
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