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搜尋「蝕刻」,共 488

AI算力競賽不只是讓資料中心搶電,連先進晶圓廠也開始面臨相同的瓶頸。韓國電力公社(KEPCO)原希望三星電子與SK海力士預付未來五年、合計約25兆韓元電費,用於提前建設半導體聚落所需輸電與變電設施,但兩家公司考量後續設備投資及財務負擔,決定

Lam Research 科林研發於美國奧勒岡州圖拉丁的研發中心舉行動土典禮,正式啟動全新先進奧勒岡研發中心的興建工程。該設施為公司未來五年逾 30 億美元全球研發網絡投資計畫的重要一環,旨在加速先進 AI 晶片開發的關鍵技術突破。 這座位

先進半導體微縮競爭從EUV曝光設備延伸至光阻、光罩與量測材料。日本王子控股(Oji Holdings)與imec合作開發的木質生質光阻,透過High-NA EUV曝光已成功形成10奈米線寬及16奈米孔洞圖形,鎖定A14世代製程,更重要的是不

半導體製造面臨功耗與異質整合的嚴峻挑戰。科林研發(Lam Research)在 2026 會計年度中,科林研發全球營收達 232 億美元,研發投資規模達 24 億美元,展現其在製程技術創新的深厚底蘊。科林研發台灣區總經理郭偉毅博士於 SEM

AI算力需求快速膨脹,半導體產能瓶頸已從GPU與CoWoS,進一步擴散至晶圓廠、設備、材料、廠務甚至建廠人力。台積電副共同營運長侯永清在SEMICON Taiwan 2026指出,AI需求增速是過去30年未見,若以去年底設備需求預估為基準,

AI晶片算力與功耗持續攀升,熱管理正從資料中心、伺服器機櫃及冷板,進一步向半導體製程與先進封裝內部推進。隨著CoWoS、3D IC等異質整合提高晶片密度,熱源更集中於封裝內部,傳統由晶片表面向外散熱的架構逐漸面臨熱阻瓶頸,促使微流道(Mic

因應AI時代要求高速、高精度製程與先進封裝趨勢,博世力士樂(Bosch Rexroth)公司今年也持續推廣高階半導體與智慧製造解決方案,落實開放控制與軟硬體整合,以實現微米級定位與低碳節能成效,協助台灣設備商與製造業加速打造未來工廠。 博世

imec的量測專家在本文帶領讀者探索深耕40年的晶圓廠量測與檢測技術,瞭解圖形化和元件創新歷史的四大時期,提供imec前瞻量測發展藍圖,其發展動力與多項重大挑戰相關,包含尺寸微縮和3D技術的興起,還有成本和永續發展需求。

imec的量測專家將在本文帶領讀者探索深耕40年的晶圓廠量測與檢測技術,瞭解圖形化和元件創新歷史的四大時期,同時提供imec的前瞻量測發展藍圖,其發展動力與多項重大挑戰相關,包含尺寸微縮和3D技術的興起,還有成本和永續發展的需求。

依國科會科學園區審議會今(4)日召開第34次會議,共核准通過5件投資案,包含:電腦及周邊產業的浩登智能科技、精密機械產業的亞智科技南科分公司、新台實業及丰榮智機公司等,其中1件不公開,投資總額約新台幣約41.58億元;另加入15件增資案,合

李長榮先進材料於今年從李長榮化學正式分割獨立,今日李長榮先進材料中科廠區舉行擴線動土典禮,本次擴線不僅象徵李長榮先進材料邁向敏捷成長的重要里程碑,更確立了公司致力於「攜手全球半導體與電子材料夥伴,共同驅動對未來的想像」的宏大行動宣言。 中科

受惠於生成式AI帶動伺服器升級,已使相關半導體需求從單一運算晶片,擴展為涵蓋GPU、AI ASIC、HBM等不同元件的完整系統,以及對於半導體先進封測製程的產能,進一步加速前後段半導體設備為此升級轉型。 從前段製程的微影、蝕刻、薄膜沉積、離

於本周進行的2026年IEEE/JSAP超大規模積體電路(VLSI)技術與電路研討會上,比利時微電子研究中心(imec)與索尼(Sony)共同發表一套用來建立超高密度晶背內連的創新整合模組,這些連接是3D堆疊和晶背功能化技術的關鍵組件。 該

於本周進行的2026年IEEE/JSAP超大規模積體電路(VLSI)技術與電路研討會上,比利時微電子研究中心(imec)攜手微影解決方案大廠艾司摩爾(ASML)與晶圓代工大廠台積電(TSMC),共同發表一套創新、穩健且可擴充的12吋晶圓整合

液空集團(Air Liquide)位於台中的全新先進材料廠房順利落成。液空集團在台灣半導體產業深耕已久,目前已擁有 54 座專門服務半導體客戶的設施;而本次落成的廠房,是該集團在台灣首座大規模生產先進沉積與蝕刻材料的基地。這些材料對於推動A

虛擬量測技術是半導體產業從經驗驅動轉向數據驅動的里程碑。它不僅解決了實體量測的瓶頸,更為晶圓廠提供了製程透明度。