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搜尋「金屬沉積」,共 12

面對當前國際半導體市場競爭加劇,應用材料公司也趁勢推出新式材料、技術和系統,將協助晶片製造商運用混合鍵合(hybrid bonding)及矽穿孔(TSV)技術,將小晶片整合至先進2.5D和3D封裝中,既提高其效能和可靠性,也擴大了應材在異質

在超薄晶圓打薄的過程中,將面對的主要挑戰有以下幾點。首先是引起應力的廣泛性熱循環、熱膨脹係數(CTE)失配、機械研磨、金屬沉積過程等;再來是物品的化學抗性,包括光刻用溶液、金屬蝕刻化學品、一般清洗溶劑等。而物品的化學相容性則需注意包括金屬、

應用材料公司因應物聯網 (IoT) 和雲端運算所需的新記憶體技術,推出創新、用於大量製造的解決方案,有利於加快產業採納新記憶體技術的速度。 現今的大容量記憶體技術包括 DRAM、SRAM 和快閃記憶體,這些技術是在數十年前發明,已廣為數位裝

配合雷射加工(含3D列印)高效能、高度複合化等特性,可滿足製程精微細準、大量客製化市場,過去需求一直不斷,也將是提升未來產業競爭力的戰略利器。台灣則可望透過大力推動的5大創新產業中的智慧機械、航太,連結北美、歐洲、東南亞等地的新興市場。

金屬沉積是成功的TSV性能的關鍵製程之一。在TSV的常規金屬沉積製程中,阻障和晶種步驟使用的是傳統的自上而下的沉積製程,用來實現高深寬比TSV的金屬化時,可能會給傳統製程帶來一些挑戰。

工研院3D列印技術再添利器!工研院於六甲院區建置國內第一座6000瓦高功率的雷射金屬沉積(Laser Metal Deposition,簡稱LMD)3D列印試製平台,並結合榮剛、廣泰、京碼、德仕雷、唯文及乃弘等六家業者成立「雷射披覆表處試製

在9月15~17日於台北舉辦的2003年台灣半導體設備暨材料展,主題是半導體製造設備與材料,在經歷前兩年的低迷景氣與SARS的風暴後,半導體產業確定邁上復甦道路,另外在技術製程的進展方面,奈米級與12吋晶圓的趨勢已經確定,身為全球半導體製造重鎮的台灣自然是相關廠商重大商機的來源,因此今年的半導體設備暨材料展,也恢復了過去的熱鬧景況。 就在展期開幕的前一天,主辦單位國際半導體設備暨材料協會(SEMI)也發表今年半導體產業成長率可介於10%~13%的預估,上半年全球半導體設備出貨金額已達140億6000萬美元,以下半年景氣較上半年更佳的情況分析,全球半導體設備市場規模應可達205億2000萬美元,較去年197億5000萬美元,約成長3.8%,但明年、後年的半導體設備年成長率,都會有二成左右的高成長率。在先前提到壓抑市場成長的因素一一消除之後,反彈的力道越見強勁,因此本刊特地在展期走訪了多家重量級與具備特色的廠商,協助相關廠商一窺市場前景與技術趨勢。

應用材料公司宣佈推出第一套「原子層沉積」(ALD:Atomic Layer Deposition)反應室,可在低溫度範圍下沉積薄而均勻的純淨薄膜;原子層沉積反應室能同時支援多種薄膜材料,包括金屬與介電質薄膜。應用材料公司已將原子層沉積技術應