Matrix，您的終極OPC (2014.10.17)

製程尺寸的縮短會帶來諸多影響，其中之一即傳統的OPC將無法在合理的回應時間內實現高圖像真實性。我們對此進行研究並提出了一個解決方案，將其命名為Matrix OPC。 首先，我們來探究應用於高階製程時，傳統的光學近似效應修正（OPC）存在的問…

兼具大型類比與大型數位電路之晶片設計策略 (2007.04.03)

兼具類比／數位方塊的混合電路，隱含極高的非線性比例設計時程及風險 由先進IC製程技術大力推動的系統單晶片(System-On-Chip,SOC)設計趨勢，已成為新一代晶片工業的主流。伴隨SOC技術而來的，則是更多前所未見的物理效應與實體障礙…

圖形化開發平台優勢解析 (2006.06.02)

圖形化開發平台可為科學家及工程師提高生產力。本文摘要說明使圖形化開發平台得以在過去二十年間，為許多使用者提供生產力的核心技術元件，並檢視推動圖形化開發平台進入新行業及市場中的各種應用程式工具及函式庫。…

IC實體設計自動化所面臨的挑戰 (2003.06.05)

電子設計自動化（Electronic Design Automation；EDA）為我國「晶片系統國家型科技計畫」中，推動我國成為世界級晶片設計中心的重要議題；本文將針對目前EDA後段實體設計部分在SoC時代所面臨的挑戰，為讀者進行全面而扼要的解析。…