铜世代告终?
自1990年代中期,铜(Cu)一直用於後段制程,作为内连导线(interconnect)与通孔(via)的主流金属材料。这些年来,铜材在双镶嵌整合制程上展现了长年不败的优良导电性与可靠度,因此过去认为在晶片导线应用上无需替换这位常胜军。
但随着技术世代演进,局部导线层持续微缩,关键元件层的线宽降至10nm以下。偏偏在这样的小尺寸下,铜材的电阻会急遽增加,进而影响电路的整体性能。
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