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應對AI晶片散熱與封裝挑戰 銦泰聚焦微間距材料與液冷導熱技術

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半導體產業的競爭關鍵正從單純的晶片算力延伸至系統級效能。銦泰(Indium)於 SEMICON Taiwan 2026 期間,宣布展出全系列經過量產驗證的先進材料技術,鎖定異質整合微間距封裝、晶片翹曲控制及極端熱管理需求,全面助攻供應鏈優化功耗、效能、面積與成本(PPAC)指標。



圖一 :   銦泰總裁暨執行長 Ross Berntson
圖一 : 銦泰總裁暨執行長 Ross Berntson

隨著 2.5D/3D 多晶片架構日益複雜,凸塊間距持續縮小,製程對於材料應力與殘留物的容許度更趨嚴格。銦泰此次重點展示了專為細間距微凸塊(Micro-bump)覆晶組裝開發的材料,包括支援植球(Ball Attachment)與去離子水(DI Water)清洗製程的 WS-641 方案。


此外,針對高難度細間距應用對可靠度及翹曲控制的嚴苛標準,銦泰亦展出專利 Durafuse LT 低溫焊料合金技術,有效降低熱應力對大尺寸封裝帶來的結構形變風險,協助客戶在提升良率的同時縮短量產導入時程。


銦泰在銦(Indium)、鎵(Gallium)、鍺(Germanium)等關鍵稀缺金屬具備成熟且持續擴充的全球供應量能,能為 AI 生態系提供穩定的材料供應鏈韌性。


銦泰總裁暨執行長 Ross Berntson 指出:「半導體產業的發展已不能只著眼於晶片本身。下一代 AI 有賴整個系統協同運作,從封裝、互連、電力傳輸到熱管理缺一不可。經過量產驗證且具規模化能力的材料,能在良率與系統效能上帶來實質助益。」


台灣匯聚全球最完整的先進晶圓製造、封測(OSAT)與伺服器系統組裝供應鏈,銦泰表示將持續深化在台技術支援與研發合作,以經過實證的材料技術,協助產業迎接下一代 AI 系統層級整合的挑戰。


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