工业成像的CCD及CMOS技术之对比

在工业应用中成像系统的广泛采用持续扩展，不仅由新的影像感测器技术和产品的开发所推动，还由支援平台的进步所推动，如电脑功率和高速数据介面。今天，成像系统的使用在各种领域很常见，如配线检查、交通监测/执法、监控和医疗及科学成像，由于影像感测器技术的进步，使成像性能、读取速度和解析度提高。随着影像感测器现在采用电荷耦合元件（CCD）和互补式金属氧化物半导体（CMOS）技术设计，审视这两大平台对于选择最适合特定应用的影像感测器很有帮助。

电子成像技术的发展始于上世纪60年代，诺贝尔奖得主Boyle和Smith开发出第一个CCD。这些元件是利用掺杂矽的固有能力将光子转换成电子，并用得到的画素等级电荷来测量光强度而运作。在架构上，这个设计的最大优势是简单，整个画素区域可用来检测光子和存储电荷，提供最大讯号级别，支援高动态范围。
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