聯華電子今(2)日發佈28奈米嵌入式高壓(eHV)製程之最新加強版28eHV+平台。28eHV+平台為下一代智慧手機、VR/AR設備及物聯網適用的最佳化顯示器驅動IC解決方案。
相較於聯電現有的28奈米eHV製程,新的28eHV+解決方案可在不影響圖像畫質或資料速率的前提下,降低耗能可達到15%。除了節省電池用電,並能更精確的電壓控制優化功能,提供設計工程師設計時更大的靈活性。
就eHV技術而言,28奈米是目前晶圓廠最先進的製程,適用於小面板顯示器驅動IC(SDDI),並廣泛用於高階智慧手機和VR/AR設備上逐漸普及的AMOLED面板。聯電在28奈米SDDI代工的市占率超過85%,自2020年量產以來,已出貨超過4億顆IC。
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