台湾应用材料公司宣布推出全新的Ultima HDP-CVD(tm) Plus Centura(r)系统。新推出的Ultima Plus系统,提供了一组高效率的远距电浆源以及敏捷的cVHP+机械手臂,不但能增加系统的产出率、减少20%以上的设备持有成本,以提供0.13微米以下的技术扩展性。
台湾应用材料表示,Ultima Plus系统的重要特色,在于提供一个全新的远距电浆源,以支援反应室的清洗工作。此电浆源整合了功率输出以及解离电浆源技术,不但能大幅增加反应过程的效率,并降低零组件的损耗;此外,新型的电浆源可减少系统的清洗时间及NF3 的消耗量达40%以上,让反应室的产出率增加10%,并降低反应气体的成本。
台湾应用材料又进一步指出,由于采用「双刃式」(dual blade)cVHP+机械手臂,Ultima Plus生产力得以大幅提升。同时,此机械手臂的设计具有非常安全的晶圆固定系统,将可让晶圆的旋转速度增加三倍,而拥有更好的处理效果及更短的晶圆交换时间。