Qcept的ChemetriQ 3000提供整片晶圓的快速線上非光學可視性缺陷(NVDs)偵測，包括了有機、無機、金屬污染、製程導致的電荷、水漬或其他的非光學可視性缺陷。NVDs無法以光學檢測系統探測，在尖端晶圓廠中，佔了所有缺陷的30%。
ChemetriQ 3000透過非接觸式且非破壞性的技術，檢測晶圓表面功函數的變化量。這些變異因子顯示出NVDs的所在，可自動轉換成整片晶圓的影像並偵測位置檔案，能安裝至晶圓廠內既有的分析工具上，以進行分類分析。ChemetriQ 3000的敏銳度高達5E9 atoms/cm2(每平方公分上5E9 atoms或二十萬個原子分之一)，超越ITRS針對22奈米技術所規範的金屬感染物標準。藉由ChemetriQ 3000，晶圓製造商可以更佳的製程監控提高良率，並透過更快的製程最佳化的方式，加速提升產出良率。
