陶氏電子材料（Dow Electronic Materials）近日推出了OPTIVISIONTM 4540化學機械研磨墊，該產品的設計目標是在研磨墊的使用壽命內實現低缺陷率和低擁有成本。這款新研磨墊使用了獨特的聚合物化學組成和細孔結構，以達到使銅阻擋層研磨的缺陷率降至最低，並提供更高的介電層去除率。OPTIVISION 4540研磨墊擁有雙孔結構以精確控制研磨，並且在研磨墊使用壽命中提供一致的研磨墊表面。
OPTIVISION 4540研磨墊可用於使用傳統軟墊的多種應用。尤其在銅阻擋層研磨方面，與POLITEX研磨墊產品相比，它在顫動和微劃痕缺陷率方面取得了一個數量級的進步，從而實現了更高的生產良率。與 POLITEX研磨墊相比，OPTIVISION 4540研磨墊的四乙氧基矽烷（TEOS）去除率提高了40%，從而實現了更高的產量和更低的擁有成本。
這款研磨墊可與陶氏的ACuPLANETM 5100系列研磨液一起使用，以實現更高性能。OPTIVISION 4540研磨墊擁有多種尺寸和配置，包括最新的視窗選項，可用於目前的和先進的技術節點和平台。陶氏目前已進行OPTIVISION 4540研磨墊的試樣提供，該產品將於今年第四季上市。
