ASML：高階邏輯和記憶體EUV微影技術的支出可達兩位數成長

艾司摩爾（ASML）預估該公司 2030 年年營收約為 440 億至 600 億歐元之間，毛利率約為 56% 至 60%。除了幾個重要終端市場的成長潛力之外，ASML 認為 AI 帶來的發展可望成為驅動整體社會生產力與創新的主要動力，並為半導體產業創造顯著商機。這些發展預計將有助於推動全球半導體銷售於 2030 年超過 1 兆美元，同時也意味 2025 年至 2030 年期間半導體市場將達到 9% 的年增長率。

此外，ASML 預期從現在到 2030 年前，客戶有機會增加製程中的 EUV 曝光層。ASML 持續提升 EUV 技術的成本效益，將有助客戶在高階邏輯及記憶體晶片製程中，藉由使用 EUV 0.33 NA 和 EUV 0.55 NA 達到從多重曝光層進一步改變成單次曝光。因此，ASML 預期 2025 年至 2030 年間高階邏輯和記憶體晶片中 EUV 微影技術的支出複合年增長率將可達到兩位數成長。

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