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IBM新型SiGe电晶体 传输频率达350GHz
预计2005年量产

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2002年11月12日 星期二

浏览人次:【1789】

根据外电消息,IBM近日对外宣布采用SiGe(矽锗)制程,研发出新型高速电晶体,IBM表示,采用新型SiGe材料的电晶体,其传输频率达350GHz,比现代晶片速度快三倍,预计2005 ~2006年投入量产。

IBM表示,IBM的SiGe电晶体能使用于新一代通讯晶片,工作频率超过150GHz,可应用于如汽车雷达碰撞系统、高性能区域网路及其它产品;SiGe电晶体超越其它化合物半导体,如砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)。

另外,今年9月Big Bear Networks宣布,已采用IBM之SiGe技术,将其用于光电讯号处理系列异频收发器和组件产品生产线,SiGe产品预计今年下半年出货。

目前也有其它厂商,致力于研发新的SiGe技术。上个月摩托罗拉(Motorola)半导体产品部宣布,就其无线应用中的SiGe技术做了改进,并且推出采用第一代0.35微米SiGe产品,而0.18微米制程将于2003年年初推出。

關鍵字: SiGe矽锗  砷化镓GaAs  磷化銦InP  IBM  摩托羅拉Motorola 
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