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半导体薄膜沉积市场复苏
新兴ALD众所嘱目

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2002年07月24日 星期三

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综合外电消息,整体薄膜沉积市场正如预期般复苏中,特别是新兴市场ALD(Atomic Layer Deposition;原子层沉积)最为显著。

根据Information Network指出,由于去年半导体产业景气低迷,连带使整体薄膜沉积设备市场仅达到34亿美元,整整衰退了46.1%,预计今年将有4%的成长率,整体市场可望成展至36亿美元。

据New Tripolibased research firm报告指出,ALD将是2002年半导体设备用于薄膜沉积市场中,最具成长力的领域,预计将有高达67.3%的成长率,市场总值8200万美元。同时该外电表示,ALD去年成长188.2%及4900万美元,其中半导体设备商ASM表现优异,拥有51%的市场占有率。

至于其它方面的薄膜沉积市场,2001年CVD(Chemical vapor deposition;化学气相沉积)即跌了46.4%,PVD(Physical vapor depostion;物理气相沉积)也降了56.5%。半导体设备大厂Applied(应用材料)在这方面即具有重要影响力,在PVD有83%市场占有率,metal CVD有48%市占率,dielectric CVD则有58%。其它相关的重要厂商还有Novellus、Tokyo Electron、Ulvac、ASM、Kokusai、SVG、Genus。

關鍵字: 薄膜沉积  ALD  Atomic Layer Deposition  原子层沉积  CVD  PVD  SVG  Applied应用材料  Novellus  Tokyo Electron  Ulvac  ASM  Kokusai  Genus 
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