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IBM:光蚀刻将使芯片更小更便宜
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2006年02月22日 星期三

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根据外电消息,IBM的研发人员在硅谷的科技研讨会上指出,现今的芯片制造科技还可能再进一步,未来的计算机处理器可能更小、更便宜。IBM表示,目前普遍使用的光学蚀刻技术,有潜力让芯片电力缩小到现今电子业标准的三分之一。

IBM的发言人指出,人们以前认为这不可能,现在则有信心这将成为可能。芯片业者可以朝更高密度的内存,或性能更强的内存任一方向发展。IBM指出,投资这项技术与否,端视芯片业者的决定。

IBM研发中心说明,目标是尽可能地推动光蚀刻技术,让业界在绝对必要前,无须选择昂贵的芯片制造方法。这个结果是迄今最有力的证据,业界在芯片制造科技必须做出剧烈改变之前,可能至少有七年的喘息时间。

關鍵字: IBM 
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