EDA电子自动化厂商─明导国际(Mentor Graphics)将在5月11号(星期四)上午9:00至中午12:30假新竹国宾大饭店举行Calibre xRC研讨会，会中将针对65nm以及RF design两个重要的应用领域来介绍如何克服寄生参数萃取问题的挑战。

Calibre xRC是Mentor Graphics萃取寄生参数(parasitic extraction)问题的突破性工具，其萃取引擎可提供必要的精确度和萃取效能。Calibre xRC本身也提供一个完整流程，可将重点放在所选择的必要数据，并可产生多种不同的网表格式数据，以便支持不同的后布局分析工具。

这次研讨会将邀请到Mentor Graphics(明导国际)美国总部技术营销顾问Dusan Petranovic做说明。Dusan曾于美国加州克莱尔门(Claremont)的哈魏穆得学院（Harvey Mudd College）任教六年，也曾经在圣塔克拉克大学（Santa Clara University）教授研究所课程。1997年至2003年期间，他加入LSI Logic Advanced Development Laboratory成为其技术幕僚的一员，于LSI’s Process R&D部门，负责高速数字回路设计的连接模块设计。他目前任职于Mentor Graphics Design to Silicon group以及Santa Clara University的奈米结构(Nanostructures)中心。

Mentor Graphics表示，此活动完全免费，会后，除了准备精致美味的餐点之外，还有飞利浦数字相框抽奖活动，欢迎业界菁英共襄盛举。