安捷伦科技（Agilent）于周三（11/18）宣布，与史丹佛大学合作进行一项研究计划，目的是要结合扫描式探针显微镜（SPM）与原子层沉积（ALD）技术，来探索新型的奈米组件。这项研究计划将有助于快速制作出奈米组件的原型并量测其特性，就10 nm以下的精细度而言是一大突破，可进行广泛的应用。

史丹佛大学机械工程系教授兼系主任Fritz Prinz表示，新颖的奈米结构，将可直接在这个独特的SPM-ALD工具中，制作出来并量测其特性，以快速做出各种新一代组件的原型。SPM-ALD工具可以让我们，用存在小尺寸中的量子局限效应来建构组件，这样的尺寸大小无法使用传统的微影技术来探量，这些组件只能使用具有超高空间分辨率的制程工具来建构。

这项计划的重点，是要整合ALD与具有奈米级剖面分辨率的SPM，以便将扫描式探针技术，延伸应用在原型制作和组件制作上。过去，电子组件的效能一直受到传统制程方法（如光学和电子束微影技术）的限制，无法提供比20 nm小很多的特征分辨率。然而，在10 nm或更小尺寸的组件中，因电子局限产生的量子机械效应所导致的现象从质量上来讲，与较大组件中所看到的极为不同。安捷伦认为，量子局限效应的运用预计将成为电子组件新的设计典范。