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工研院發展出ITO替代技術 成本便宜一百倍
「低溫大氣壓電漿鍍膜技術」獲得2012 R&D 100金獎

【CTIMES/SmartAuto 歐敏銓 報導】   2012年08月30日 星期四

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在今年的Touch Taiwan觸控展中,工研院展示了多項與觸控相關的先進技術,包括由工研院量測中心開發、獲得微軟認證通過的「Windows 8觸控面板手動測試工具」、凌空觸控鍵盤(Air Touch Key-Pad)及甫獲得2012全球百大科技(R&D 100)金獎技術的「低溫大氣壓電漿鍍膜技術」。

這裏要特別介紹由工研院機械所主導開發的「低溫大氣壓電漿鍍膜技術」,因為它是相當具有產業革命影響力的一項技術。工研院機械所先進製造核心技術組電漿應用技術部張加強經理指出,此技術讓氧化鋅(ZnO)突破環保議題,成為ITO的最佳替代技術。

此一低溫(< 150℃)環保大氣壓電漿鍍膜技術,成功突破當前光電產業中關鍵的金屬氧化物材料(metal-oxide)鍍膜難以兼顧的環保及成本的瓶頸,在大氣環境下只需使用空氣與含金屬離子的水溶液,就可在數分鐘內完成透明導電薄膜(TCO)鍍膜。

今日主流的ITO透明導電膜,採用的銦材料因稀少而昂貴,又受控於中國,然而包括面板、觸控面板、太陽能都需用到透明導電膜,因此,發展ITO替代材料是目前市場極熱門的議題。張加強表示,鋅和銦的材料成本,相差了將近一百倍,過去受限於環保議題及製程技術而無法成為商用化的透明導電材料,如今這個技術突破了這個瓶頸,這對台灣比重極大的面板、觸控面板、太陽能等產業來說,都是很好的消息。

目前工研院的這項技術在材料、製程及檢測驗證上都已相當成熟,而且在挑戰大面積鍍膜的應用(G5 Size, 1100 x1400 mm glass substrate)上,也很成功。張加強相信此一設備技術能大幅提升台灣廠商的差異化條件,但由於台灣廠商普遍有一種外國月亮比較圓的心態,不願直接採用台製的設備或技術,所以工研院的策略是將此技術先提供給國外廠商先使用,未來再從國外打回台灣。

關鍵字: ITO替代技術  ZnO  低溫大氣壓電漿鍍膜技術  工研院 
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