由欧盟第七期科研架构计画资助的企业学术联盟宣布一项三年期专案圆满结束，并发布了设计合成工具流程以及相关的亲微影（litho-friendly）单元库和评估工具。

SYNAPTIC研究专案由来自欧洲和巴西的8家产学机构组成，合作目标是研发以创新的规则化为中心的设计方法和电子设计自动化（EDA，Electronics Design Automation）工具，以降低技术节点升级和先进次波长微影（sub-wavelength lithography）技术对逻辑和物理实现效果的限制。

透过开发新的模式察觉型（pattern-aware）逻辑合成，SYNAPTIC专案为欧洲半导体工业解决了关键性问题，如降低系统变异、可制造性设计（DFM，Design for Manufacturing）和改进良率（单元、IP/微距和系统水平）、复杂的面积/性能比及系统级/架构预测和签核，目标是在先进的奈米技术时代继续遵循摩尔定律预测的技术节点升级。
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