【立即報名】Basler半導體視覺應用技術講座：突破檢測極限 提升良率與效率

面對製程微縮的極致挑戰，您的檢測系統準備好了嗎？

圖一

隨著半導體製程技術不斷邁向 2nm、3nm 的先進節點，以及 CoWoS、PLP、CPO 等創新封裝技術的普及，傳統的自動光學檢測（AOI）正遭遇前所未有的挑戰。缺陷更微小、製程更複雜，如何確保高精度與高效率的檢測良率，成為您製程優化的關鍵。

Basler與CTIMES聯手，舉辦一場專為半導體檢測實務應用相關人士的專業科技沙龍，將探討如何透過精準、高速的電腦視覺技術，來引領半導體製程的突破。在當前先進封裝與高階製造快速演進的時代，每一微米的檢測速度與精度，都是競爭力的分水嶺。

本次活動將由Basler技術專家親臨現場，深入剖析：

‧ 視覺技術如何突破製程瓶頸、提升良率與產能

‧ FPGA與影像預處理在半導體檢測中的應用趨勢

‧ 從模組到系統整合的實務經驗分享

除主題演講外，現場將設有實機應用展示區，讓您親身體驗電腦視覺技術如何賦能半導體檢測，開啟製程創新的新視界。

本次沙龍採審核制，限額30名。

我們誠邀您與業界專家面對面交流，掌握下一波製程競爭優勢。

【免費報名資訊】

名額有限，請立即點擊下方連結完成報名，掌握次世代半導體製造的關鍵技術！

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活動日期：2025.11.27

活動時間：PM 13:30-16:00

活動形式：東西講座/ 科技沙龍