NEC率先突破0.1微米製程技術的門檻

日本NEC公司日前宣布成功研發0.095微米的製造技術，成為世界上首家率先突破0.1微米技術製程的公司。該項技術將應用於製造大規模集成電路，並將於2001年第二季末正式推出市場。和0.13微米技術製造的舊產品比較，採用0.095微米製程的新產品的集成化程度提高19倍，可以節省30%的電能，並且獲得1GHz的運行速度，這項優點對於高速大容量通信系?，以及要求高節電標準的移動設備來說，具有重大的應用價值。因此，專家們認為0.1微米製程的突破，將快速推動互網連絡。

NEC公司表示將在3類半導體產品優先採用0.095微米製程，包括大容量通信終端與生成圖形用的高速型產品、普及互聯網及數字信息家電用的高密度型、移動設備用的低耗能型半導體產品。NEC公司已開始接受全球各地廠商的訂貨，並且將在2001年11月份開始量產。

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