聯華電子今宣布,該公司推出40奈米結合Silicon Storage Technology(SST)嵌入式SuperFlash非揮發性記憶體的製程平台。新推出的40nm奈米SST嵌入式快閃記憶,較量產的55奈米單元尺寸減少20%以上,並使整體記憶體面積縮小了20-30%。東芝電子元件&存儲產品公司已開始評估其微處理器(MCU)晶片於聯電40奈米SST技術平台的適用性。
東芝電子元件&存儲產品公司混合信號晶片部門副總松井俊也表示:「我們期待採用聯電40奈米SST技術有助於提升我們MCU產品的性能。與聯電合作,透過穩定的製造供應及配合我們的生產需求提供靈活的產能,亦將使我們能夠保持強勁的業務連續性計劃 (BCP)。」
已有超過20個客戶和產品正以聯電55奈米SST嵌入式快閃記憶體製程進行各階段的生產,包含了SIM卡,金融交易,汽車,物聯網,MCU及其他應用產品。
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