比利时微电子研究中心（imec）与三井化学共同宣布，为了推动针对极紫外光（EUV）微影应用的奈米碳管（CNT）光刻薄膜技术商业化，双方正式建立策略夥伴关系。此次合作，三井化学将把imec根据奈米碳管所研发的创新光罩护膜技术，整合至三井化学的光刻薄膜技术，目标是实现能够全面投产的规格，预计将在2025~2026年导入高功率的极紫外光（EUV）系统。

推动EUV奈米碳管光罩护膜商用，imec与三井化学缔结策略夥伴关系

此策略夥伴关系旨在共同开发光刻薄膜及极紫外光（EUV）光罩护膜，由imec提供技术谘询与极紫外光（EUV）曝光机测试，三井化学进行商用生产。这些光罩护膜被设计用来保护光罩在极紫外光（EUV）曝光时免受污染，不仅具备很高的极紫外光（EUV）穿透率（≥94%）和极低的极紫外光（EUV）反射率，对曝光的影响也能控制到最小，这些都是要让先进半导体制造达到高良率和高产量所需的关键性能。这些奈米碳管（CNT）光罩护膜甚至还能承受超过1kW等级的极紫外光（EUV）输出功率，有助於发展新世代（高於600W）的极紫外光源技术。於量产导入极紫外光（EUV）微影技术的厂商对这些性能产生浓厚兴趣。因此，此次合作的双方将携手开发可供商用的奈米碳管（CNT）光罩护膜技术，以满足市场需求。