账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
SEZ在日本成立硅晶背蚀刻展示据点
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2004年07月27日 星期二

浏览人次:【1962】

SEZ Group宣布在日本横滨成立一处先进产品展示据点。新据点紧邻众多芯片制造大厂,名为客户应用实验室(Customer Application Lab, CAL)。本实验室将针对该公司的硅晶背蚀刻工具提供展示与制程支持服务,协助客户将这些工具应用在后段的组装与封装制程。

SEZ日本分公司营运长八代正昭表示:「日本与亚太地区在全球封装与组装设备市场中拥有70%以上的占有率。此区域的市场有极可观的成长潜力,因此在这个地区为我们的客户设立硅晶背蚀刻技术的展示据点是必然的策略。」

SEZ在去年透过硅晶背蚀刻技术跨入先进封装领域,提供晶圆研磨、表面处理、以及应力释放等技术,协助客户进行更高效能的IC封装。除了提供提升两倍的晶圆/晶粒强度外,SEZ的硅晶背蚀刻技术让客户能运用各种先进的封装技术针对特定应用自行调整出最佳的表面状况,配合空间有限且晶粒彼此紧邻的环境。实际范例包括芯片规模、多重芯片及晶圆规模、覆晶、晶粒/封装堆栈及systems-in-package等。这套工具亦含有非接触式Bernoulli处理机具,能安全地移动与处理厚度仅有25微米的脆弱晶圆。在硅晶背蚀刻参数方案,SEZ的旋转蚀刻技术几乎在每个项目都明显优于其它替代技术 (透过此技术,晶圆在研磨薄化后,能够有效地将累积的应力释放,进而协助业者开发效能更高的IC封装方案。) 。

關鍵字: 硅晶背蚀刻  SE  LELPZ  SE  LELPZ  营运长  八代正昭  电子逻辑组件  电子感测组件  存储元件 
相关新闻
SEMI PV Group开办「太阳光电学院」
SEMI :12月北美半导体设备B/B值为0.93
SEMI与Intersolar合作德太阳能展,扩大09年规模
SEMI:全球晶圆产能成长创2002年以来新低
SEMIL:美国通过征税延期案有助高科技产业发展
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 延续后段制程微缩 先进导线采用石墨烯与金属的异质结构
» 提升供应链弹性管理 应对突发事件的挑战和冲击
» 专利辩论
» 碳化矽基板及磊晶成长领域 环球晶布局掌握关键技术


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK85E6JKDFMSTACUKA
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw