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台積電與美商巨積合作發展製程技術
雙方將共同發展0.13微米製程技術及新一代的製程技術

【CTIMES/SmartAuto 黃明珠 報導】   2001年04月04日 星期三

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台積電與美商巨積公司(LSI)4日共同宣佈簽署一項合作協定,雙方將結合力量共同開發半導體尖端製造技術,並以發展0.13微米先進製程為初期合作目標。

根據台積電與LSI所簽署的這項合作發展協定,雙方將共同發展0.13微米製程技術,其中,LSI將利用台積電的0.13微米製程技術,來支援其客戶的系統單晶片(system-on-a-chip; SoC)產品設計,產品將利用二家公司世界級水準的製造能力進行生產。此外,二家公司亦有意共同開發新一代的製程技術,並以超越半導體產業技術藍圖為目標。

LSI全球營運執行副總經理Joe Zelayeta表示,透過這項合作協定,雙方優異的先進製程技術,搭配LSI的生產能力,不僅可進一步提升LSI的製程技術,鞏固其技術發展腳步,同時LSI將充份運用此一優勢,提供更佳的服務予其全球客戶。

台積電總經理曾繁城表示,該公司很高興能與全球系統單晶片領導廠商巨積公司合作,共同發展0.13微米先進製程技術。台積電已於去年十二月為多家客戶成功試產出0.13微米製程晶圓產品,而根據台積電與巨積公司之合作協定,雙方合作發展之技術,將更進一步延伸台積電的0.13微米核心標準(core)製程,同時台積電也將提供巨積公司更多的先進技術產能。

關鍵字: 台積電(TSMC美商巨積  Joe Zelayeta  曾繁城 
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