半导体制造业新型晶圆检测系统开发商Qcept（Qcept Technologies Inc.）宣布绝缘层上覆硅（SOI）与其他工程基板的供货商Soitec公司，将采用其ChemetriQ 3000非光学可视性缺陷（NVD）检测系统。ChemetriQ系统安装于Soitec的Bernin II 12吋SOI制程晶圆厂中，目前应用于裸晶圆（bare silicon wafer）的进料品管，与SOI晶圆的制程监视。

Qcept的ChemetriQ平台提供快速、全芯片、在线的非光学可视性缺陷检测，包括有机与无机的残余物、金属污染物、制程导致的电荷、水痕，以及其他光学检测系统无法侦测到的非可视性残余物缺陷。为了达成上述功能，ChemetriQ运用一项创新的非破坏技术，能侦测半导体晶圆表面的功函数变化量（work function variations）。ChemetriQ平台的灵敏度达到5E9 atoms/cm2（等同于在20万平方公分的范围内的1个原子），这超越国际半导体技术蓝图（ITRS）对于22奈米节点所规范的金属污染物侦测要求。