隨著先進製程持續推進至3奈米甚至2奈米世代,極紫外光刻(EUV)設備已成為晶圓製造不可或缺的核心技術。近期台灣業者騏億鑫正式跨入EUV設備安裝工程領域,並同步建置導入AI與自動化技術的工程製造中心,象徵台灣供應鏈正由傳統廠務支援,進一步邁入先進製程的關鍵環節。
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| 台灣業者騏億鑫正式跨入EUV設備安裝工程領域 |
EUV系統以ASML所開發的設備為代表,其運作環境對工程條件要求極為嚴苛。首先,在氣體系統方面,需確保超高純度等級,以避免微量雜質影響曝光品質;其次,EUV設備需運行於高度穩定的真空環境,以維持光源與光學路徑的精準性;此外,整體管路系統亦必須達到極高潔淨標準,任何微粒污染都可能導致製程缺陷,影響晶片良率。
因此,能夠參與EUV設備安裝,不僅代表具備高階廠務整合能力,更意味著工程技術已對標先進製程等級。這類工程涉及氣體供應、真空系統建置、精密管線配置與潔淨室整合等多領域技術,且需在極短時間內完成高精度施工與驗證,技術門檻遠高於傳統半導體廠務工程。
值得注意的是,此次導入AI與自動化的工程製造中心,進一步提升施工與維運效率。透過數據分析與智慧監控,可即時掌握設備運行狀態與環境參數,並優化施工流程與品質控管,降低人為誤差風險。這也反映出半導體廠務正從勞力密集轉向數據驅動的智慧工程模式。