比利時微電子研究中心（imec）近日宣布所採購的ASML最新EXE:5200高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影系統已順利到廠，將進一步確立其在埃米時代扮演產業發展基地的關鍵地位，並提供其全球夥伴生態系統提前取得新一代晶片微縮技術的空前機會。

imec近日宣布所採購的ASML最新EXE:5200高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影系統已順利到廠，

這套High-NA EUV系統將直接整合量測和圖形化工具及材料的全面套件，賦予imec及其生態系統夥伴發展量能，以解鎖2奈米以下邏輯和高密度記憶體技術所需的性能，為先進AI與高效能運算技術注入快速成長的動能。

imec執行長Luc Van den hov表示：「過去兩年來，imec與ASML在雙方共同於荷蘭Eindhoven建立的High-NA EUV實驗室，攜手生態系統來領先研發High-NA EUV技術，已經為高數值孔徑（0.55NA）EUV微影技術寫下重要篇章。」

目前這套EXE:5200 High-NA EUV微影系統已被安裝在imec設於比利時魯汶的12吋無塵室，我們希望藉此推動這些High-NA EUV圖形化技術與產業接軌，並開發新一代High-NA EUV圖形化技術的應用案例。

隨著半導體業邁入埃米世代，High-NA EUV技術將是最重要的基礎戰力，透過imec提供這套系統具備最頂尖的解析度、增強型疊對性能、高產量，以及提升製程穩定度和產量的新型晶圓倉儲設備，將在imec合作夥伴加速2奈米以下的晶片發展時，提供能率先開發的決定性優勢。」

這項里程碑也是imec與ASML策略夥伴關係的關鍵部分，該協議為期5年，並獲得歐盟（晶片聯合承諾與歐洲共同利益重要項目）、法蘭德斯政府與荷蘭政府的支持。imec執行長Luc Van den hovb認為：「作為歐盟資助的奈米晶片試驗製程的組成部分，這套工具預計將鞏固歐洲在未來數十年先進半導體研發的領導地位。」

在imec的無塵室配備ASML EXE:5200 High-NA EUV微影系統，穩固了imec在先進圖形化技術領域作為最完整開發環境的地位。Imec也與各大晶片製造商、設備、材料與阻劑供應商、光罩企業及量測專家建立深度生態系統合作，這將能讓我們加速學習循環並提升製程穩定度，為新一代邏輯和記憶體元件技術，開發與展示尖端圖形化技術，驅動將能塑造未來先進運算與AI發展的技術創新。

imec預期EXE:5200 High-NA EUV微影系統將在2026年Q4完成所有檢驗。同時，ASML與imec於荷蘭Eindhoven共同建立的High-NA EUV微影實驗室也將維持運作，為imec及其生態系統夥伴確保High-NA EUV研發工作持續進行。