落實半導體設備自主化 儀科中心推首台自研自製ALE設備

國家實驗研究院台灣儀器科技研究中心（國研院儀科中心）在科技部指導下，配合國家政策，積極發展先進半導體設備，期能落實半導體設備自主化的目標。

圖一 : 國研院於台灣國際半導體展展示高階儀器設備自主研發成果

國研院儀科中心深耕光機電及真空領域逾45年，近年來將核心技術實踐應用於半導體設備自主化，開發出第一台由國人自製之「原子層蝕刻」（Atomic Layer Etching；ALE）設備，並實際結合國家實驗研究院台灣半導體研究中心（國研院半導體中心）之半導體製程平台，完成半導體元件製作及驗證測試。此半導體製程設備與技術平台成果於9月23日至25日南港展覽館「SEMICON Taiwan 台灣國際半導體展」發表，並同步展示半導體產業高階儀器設備自主研發成果與客製服務績效。

除了實體成果展示外，國研院在9月24日下午於半導體展「創新技術發表會」（TechXPOT）舉辦「國研院先進半導體設備與製程技術」在地化成果發表會。國研院儀科中心楊燿州主任表示，國研院在開發半導體產業未來發展佈局所需關鍵儀器設備之成果有目共睹，結合儀科中心與半導體中心強大的研發能量，國研院可提供國內先進封裝曝光機廠商及原子層蝕刻設備廠商最佳的研發服務平台。
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