KLA-Tencor新版黃光電腦模擬軟體進一步克服EUV微影

KLA-Tencor公司推出最新版的黃光電腦模擬軟體 PROLITHTM 12。此新版本將協助晶片製造商及研發機構的研究人員能以具成本效益的方式，探索與超紫外光（EUV）微影相關的各種光罩設計、黃光製程材料及製程的可行性。

縮小晶片上的最小線寬尺寸，能讓晶片廠生產出更快的微處理器，但是在成像過程中，用於曝光光罩的光波波長，會限制所能形成的最小線寬尺寸。在過去幾代的裝置上，半導體產業一直使用深紫外光（DUV）光波，而波長更短的下個世代，將會是EUV的天下。專家預測，EUV微影技術，有可能創造出比現今最強大的晶片還要快一百倍的元件。

KLA-Tencor製程控制資訊部副總裁暨總經理Ed Charrier表示，在業界的技術藍圖中，儘管EUV微影被列為幾年內將用於半導體裝置生產的可能技術，但仍存在若干技術障礙需要被克服。此新版黃光電腦模擬軟體PROLITH 12，能讓研究人員精準地模擬出EUV光波和光罩、成像材料及製程之間的相互作用，以預測最後形成在晶圓上的圖案。透過PROLITH 12的協助，研究人員將無需使用試驗材料或原型製程機台，也不必經歷昂貴又漫長的程序，沖印數百個測試晶圓。
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