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imec推出首款2奈米制程设计套件 引领设计路径探寻
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2024年03月11日 星期一

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於日前举行的2024年IEEE国际固态电路会议(ISSCC)上,比利时微电子研究中心(imec)推出一款开放式制程设计套件(PDK),该套件配备一套由EUROPRACTICE平台提供的共训练程式。利用这款套件,将能透过imec开发的2奈米技术来进行虚拟数位设计,包含晶背供电网路。

这款设计路径探寻(pathfinding)制程设计套件(PDK)能够实现采用2奈米环绕闸极(GAA)技术的数位设计,这就包含晶背导线技术。
这款设计路径探寻(pathfinding)制程设计套件(PDK)能够实现采用2奈米环绕闸极(GAA)技术的数位设计,这就包含晶背导线技术。

此套件将加装於EDA工具套件,例如益华电脑(Cadence Design Systems)和新思科技(Synopsys)推出的产品,为设计路径探寻(pathfinding)、系统研究及训练提供获取先进制程的广泛途径。这将能提供产学界用来训练未来半导体顶尖人才的所需工具,也会协助产业利用有意义的设计路径探寻(pathfinding),把自家产品过渡到新一代科技。

晶圆厂制程设计套件(PDK)能够开放晶片设计人员使用一套经过测试与检验的元件库,以实现满足功能性及可靠性的设计。但通常会在技术达到一定的生产能力时,才会提供给生态系统使用。然而,限制开放和保密协定(NDA)的规定使得技术导入得门槛提高,产学界难以在研发阶段获取先进的制程技术。开放使用比利时微电子研究中心(imec)的2奈米制程设计套件(PDK)将能协助学界和商业公司,imec逻辑晶片??总裁(VP)Julien Ryckaert表示:「我们如果想吸引新一代晶片设计人员的关注,我们必须提前开放基础设施给他们使用,以利

他们培养先进制程的设计能力,搭配的训练课程也将协助这些设计人员尽快掌握最新技术,并让他们了解最新的技术破坏(technology disruption),例如奈米片元件和晶背技术。这款用於设计路径探寻(pathfinding)的制程设计套件(PDK)也将协助企业转换到采用未来技术节点的设计,并帮助他们防范产品面临微缩瓶颈。」

此套件包含用於数位设计的必备基础设施,以一套数位标准单元库和静态随机存取记忆体(SRAM)IP 巨集为基础。未来,这款制程设计套件(PDK)平台将扩展到更先进的技术节点,例如1.4奈米(A14)。随附的训练程式也将於第二季初期展开,除了教授订阅者2奈米技术的特性,还能提供利用益华电脑(Cadence)和新思科技(Synopsys)的EDA软体来操作数位设计平台的实作训练。

新思科技的技术策略及策略夥伴??总裁(VP)王秉达(Brandon Wang)表示:「培训一批工程专业人才对半导体产业来说很重要,这些人员必须具备开发颠覆性产品所需的技术。」 王秉达接着说:「imec推出的制程设计套件(PDK)是体现业界合作成功扩大开放先进制程技术的绝隹典范,这一代及新一代的设计人员可以藉此加速促进半导体创新。我们与imec合作,为他们这套2奈米制程设计套件来建立一套经过认证且由AI驱动的EDA数位设计流程,这能让设计团队进行原型设计,并利用一套基於制程设计套件的虚拟设计环境来加速转换至新一代技术。」

益华电脑(Cadence)学术网路计划(Academic Network)??总裁(VP)Yoon Kim表示:「Cadence致力於与大学和研究机构合作,以驱动创新和辅助开发奈米电子及微电子产业的专业人员。Cadence与imec在多项计画上已经建立了多年的成功合作,而imec新推出的制程设计套件象徵了为训练新一代半导体设计人员的一个新的重大里程碑。imec运用了Cadence所开发的业界领先AI驱动数位及客制化/类比完整流程内的所有工具,以完成这款制程设计套件的创建及验证,确保产学界夥伴能够获取支援最先进制程的Cadence完整流程,藉此他们也能无缝转换到最新一代的设计。」

關鍵字: imec 
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