明导国际(Mentor Graphics)日前宣布推出Calibre nmDRC工具，也为传统的设计规则检查(DRC)作业带来新定义。这套工具大幅缩短总周期时间，还整合了关键区域分析及关键特征辨识等克服奈米时代生产良率挑战所需的多项重要功能。

Calibre nmDRC以一种革命性的新方法响应缩短周期时间的需求，它提供四种关键功能使得Calibre nmDRC截然不同于传统的设计规则检查工具。一、Hyperscaling技术把更高扩充性和超快的执行速度提供给需要大量运算的应用。二、动态结果显示(Dynamic Results Visualization，DRV)以及Incremental DRC大幅改变传统迭代程序的循序作业流程。三、整合性可制造设计(DFM)分析和增强功能让设计人员做出电路布局取舍，进而将随机性、系统性和参数化的良率损失减至最少。四、直接数据库存取功能让设计人员无论采用何种设计环境，都能在整个流程中更方便地使用Calibre nmDRC。

进入65奈米后，设计验收(signoff)已不再仅是DRC和布局与线路图比对(LVS)，这些基本的实体验证工具现已获得各种良率分析、布局增强以及可转印性(printability)等功能的支持。除此之外，日益复杂的奈米设计规则也反映出一项事实：想利用传统验收方法引导布局工程师及其工具产生可制造的布局将变得越来越困难。在奈米时代里，传统上以符合性为基础(compliance-based)的验收、DRC/LVS以及根据布局图(as-drawn layout)所进行的后布局分析都无法产生良率令人满意的设计。