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良率低落元兇?四大表面形貌量測手法 如何選?
 

【作者: 張廷安】   2025年07月07日 星期一

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選錯量測分析手法,可能讓你產品良率下滑、製程誤判、重工延宕,甚至導致整批報廢。隨著AI晶片、CoWoS、HPC等先進製程快速推進,每個關鍵工序都依賴高精度的表面形貌量測。問題是,不同樣品適用的分析手法差很大,你真的選對了嗎?


隨著AI晶片、高效能運算(HPC)、CoWoS等先進封裝技術蓬勃發展,對製程控制與量測精度的要求也愈加嚴格。從晶圓製造、蝕刻、鍍膜,到晶粒封裝與模組整合,每一道工序都仰賴表面形貌量測技術,協助掌握品質異常與製程穩定度。


什麼是「表面形貌量測」?簡單來說,就是測量樣品表面的微觀高低起伏、粗糙度、曲率、平整度等幾何特性。這些數據有助於了解材料或製程是否穩定、是否有異常,進而影響後續良率與產品可靠度。
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