账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
明导国际举办EDA科技论坛 工程人员参与热烈
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2007年09月06日 星期四

浏览人次:【6604】

明导国际(Mentor Graphics)于今日假新竹国宾饭店举办2007 EDA科技论坛(EDA Tech Forum),共吸引了四百多位从事半导体设计相关人士参与,针对设计验证、DFM、DFT、AMS、ESL开发、FPGA设计、如何提升良率及加速设计流程等,各项芯片设计环节进行研讨,以协助芯片设计人员克服瓶颈,提升专业职能,以因应当前变化快速的芯片设计产业。

明导国际执行长Walden C. Rhines表示,芯片设计人员要具备Break与Fix的设计能力(source:HDC) BigPic:349x352
明导国际执行长Walden C. Rhines表示,芯片设计人员要具备Break与Fix的设计能力(source:HDC) BigPic:349x352

此次的EDA科技论坛共分「芯片设计专题」与「PCB设计专题」两大主轴进行,参与论坛的人士可针对自身的工作需求,选择适当的场次参加。明导国际表示,EDA科技论坛的举办目的就是希望透过此活动,让工程人员直接与厂商进行互动,针对实际遭遇的问题来解决;而厂商也可以透过与工程人员的互动,了解他们的需求,让产品更贴近用户。明导国际并表示,除了各个专业课程的举办外,现场也有厂商的展示与实际说明,若参与的人士对课程内容有任何的疑问,可直接至展示摊位上进行更进一步的了解。

而对于目前的芯片设计趋势与工程人员所面临的挑战,明导国际执行长Walden C. Rhines在开幕的演讲上表示,当芯片设计制程进入奈米等级后,工程人员习惯的设计的流程就会被许多因素给打破,这些因素包含新旧计术的转变、上市时间的压力、生产考虑、以及低耗电需求等,这些因素都会造成工程师必须改变、或调整设计程序,也造成时间与成本的压力。

Walden C. Rhines也指出,「Place & Route」是最容易破坏设计流程的因素,平均每两个技术世代就会出现一次。但他也表示,有危机就有转机,设计人员要具备破坏(Break)与修复(Fix)的能力,让芯片设计流程具备弹性。

另外,智原科技(Faraday)SoC发展暨服务处长谢承儒则表示,在SoC的设计需求日广的情形下,芯片设计人员要具备「Design for X」的能力,包含DFT、DFM、DFY、DFF等,因此大大提升了工作的难度。他则建议,工程人员可以妥善运用EDA工具并与设计服务公司合作,以加速产品上市与减低成本。

關鍵字: 明导国际  Walden C. Rhines  谢承儒 
相关新闻
波音扩展与西门子Mentor Graphics的夥伴关系
明导国际软体已通过台积电12FFC与7nm制程进一步认证
台积电与明导国际合作为新InFO技术变形提供设计与验证工具
西门子收购Mentor Graphics 拓展工业数位化领域
可无缝协同合作 明导推高效多板系统设计解决方案
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 开启边缘智能新时代 ST引领AI开发潮流
» ST以MCU创新应用技术潮流 打造多元解决方案
» ST开启再生能源革命 携手自然迎接能源挑战
» ST引领智慧出行革命 技术创新开启汽车新纪元
» ST:精准度只是标配 感测器需执行简单运算的智慧功能


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8564VJZ5QSTACUK3
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw