账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 產品 /
东芝推出800V超结N沟道功率新MOSFET
 

【CTIMES/SmartAuto 陳復霞整理报导】   2017年01月23日 星期一

浏览人次:【4584】

东芝公司(Toshiba)旗下储存与电子元件解决方案公司宣布针对高效率电源推出具备改进的低导通电阻、高速开关的800V超结N沟道功率MOSFET。 「DTMOS IV系列」的八款新MOSFET利用超结结构,与东芝之前的「π-MOSVIII系列」相比,其可将其单位面积导通电阻(RON x A)降低近79%。

东芝针对高效率电源推出具备改进的低导通电阻、高速开关的800V超结N沟道功率MOSFET..
东芝针对高效率电源推出具备改进的低导通电阻、高速开关的800V超结N沟道功率MOSFET..

该系列产品改进的高速开关还有助于提高使用该系列产品的晶片组的电源效率。这些MOSFET适用于工业电源,伺服器、笔记型电脑配接器和充电器以及行动装置的备用电源以及LED照明灯具的电源。出货即日启动。

關鍵字: MOSFET  N沟道功率  高效率电源  低导通电阻  高速开关  东芝  东芝  电子逻辑组件 
相关产品
瞄准AI供电与高效马达驱动 英飞凌OptiMOS 7 MOSFET再进化
Toshiba全新双通道数位隔离器强化工业自动化高速稳定通讯
Littelfuse超级结X4-Class 200V功率MOSFET具有低通态电阻
Toshiba推出1200 V第三代碳化矽肖特基栅极二极体新产品
Littelfuse推出高频应用的双5安培低压侧MOSFET栅极驱动器
  相关新闻
» 应用材料推出沉积系统 符合埃米级AI晶片需求
» 研华导入英特尔最新平台 推进Edge AI 医疗应用升级
» SEMICON Chin展先进制程解方 资腾PVA刷轮有效提升良率
» SEMI首次年度会员调查出炉:面临供应链调整压力、人才招募困难、绿电环境仍待优化
» imec获High-NA EUV系统 推动业界步入埃米世代
  相关文章
» 研华导入英特尔最新平台 推进Edge AI 医疗应用升级
» SEMICON Chin展先进制程解方 资腾PVA刷轮有效提升良率
» SEMI年度调查:产业面临供应链布局、人才培育与低碳转型挑战
» imec获High-NA EUV系统 推动业界步入埃米世代
» 智慧医疗国家队亮相 HIMSS 2026横跨 AI 晶片到高龄照护

刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2026 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HKA4G3QONO0STACUKH
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw